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摘要:印章技术经历了不断的革新与发展,其中翻转印章与光敏印章是近年来涌现出的新技术。翻转印章通过机械结构实现印面翻转,方便多次使用。光敏印章则采用先进的光敏材料制作,具有快速干燥、清晰度高和耐磨损等特点。这些技术革新...