光敏印章与原子印章技术，两大主流印章的特点解析

摘要：当前印章技术两大主流为光敏印章和原子印章。光敏印章通过光敏材料制作，具有清晰度高、印字牢固、耐磨损、使用寿命长等特点，适用于重要文件的盖章。原子印章则采用原子印刷技术，特点是字迹清晰、盖印迅速、可重复注油使用，...

阅读全文 逆流°只是风景 4435 次浏览 2025-02-14 抠图生成