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摘要:当前印章技术主要分为两大主流,即光敏印章和胶皮印章。光敏印章通过光敏材料制作,具有高分辨率、清晰度高、耐磨损等特点;而胶皮印章则采用橡胶材质,具有弹性好、印迹饱满、成本较低等优势。两者各有特色,根据需求选择适合...